该光刻机技术特征1．光学系统：采用多点反射镜聚光和实现均匀照明，反射镜采用梯形反射镜，国内其他机型采用矩形反射镜，URE-2000/17具有更高的能量收集效率（Ф100mm范围内功率密度大于6mW/cm²）和照明均匀性(Ф100mm范围内均匀性可达±4%，国内同类一般低于±4
产品货号：U2000/17 产地：中国 价格：询价 点击数：5630 商家询价
匀胶机适应于半导体,硅片,晶片,基片,导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆.其稳定的转速和快速的启动,可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性.
产品货号：KW-4A 产地：中国 价格：询价 点击数：10953 商家询价
旋涂仪适应于半导体,硅片,晶片,基片,导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆.其稳定的转速和快速的启动,可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性.
产品货号：vtc-100 产地：中国 价格：询价 点击数：9468 商家询价
光刻机 应用领域 集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器、生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻，波导阵列光刻、液晶显示、声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、码盘刻划等
产品货号：DS-2000/1.0 产地：中国 价格：询价 点击数：4646 商家询价